场地位于坪山区坑梓街道光祖公园西侧，光祖南路东侧，吉康路南侧，丹梓东路北侧。场地分为南北两个地块，两地块相距130余米，两地块用地面积总计21543㎡。北地块建筑地上6层、地下二层，功能包括坪山区科技馆和书城，南地块建筑地上8层、地下二层，功能为坪山区文化馆，两地块之间为光祖公园西入口，地下有兼顾停车和人防的公共停车场。总建筑面积72436.62m2，计容积率建筑面积43176.92m2，不计容建筑面积为29259.70m2 。

用地南侧集中了大量的先进制造业产业园，城市规划满足机动车和工业化的，是大尺度的规整城市结构；用地西侧是城中村，北侧则是大量自发建设的村镇，保存着深圳数量最多、规模最大的16 座客家围屋，街道密集曲折、建筑大小不一；东侧是公共绿地——光祖公园。

设计方案从城市发展的整体规律出发，统筹考虑建筑和景观的实际使用和运营维护，形成诸多设计亮点，主要有以下三点：

一、限于用地条件只能以两个地块分开建设的情况下，将两地块之间光祖公园西侧用地纳入此次设计范围，使项目南北两地块达成高效的连接形成连续而又有变化的街道界面，实现社会效益、文化效益、环境效益和经济效益的最大化；

二、在用地面积极为紧张的情况下，通过将二层、三层建筑做退台处理，构建出沿城市道路延展的骑楼退台广场，再用高低错落的拱顶加以遮蔽，成为适应岭南地区气候特点的城市公共空间。这些公共空间作为科技馆的室外展场和文化馆的群众舞台，室内外空间可连通互动、提质增效。同时与西侧的村落界面围合形成一个同时具有城市公共建筑与城中村小体量建筑群尺度的街道，使两种代表不同的城市肌理和文脉的建筑空间在此相遇；

三、拱廊作为项目最重要的昭示形象，选择以现代胶合木材进行构建，其温暖的色泽符合人们对文化建筑的经验和预期，独特的外观特征能够使其成为两馆的外观识别要素。相较于金属和混凝土建材，工程木产品更加符合国家节能减排的政策，是建筑领域新材料、新技术、新方法的成熟实践，表达项目现代时尚、简明清新的建筑空间形象；

设计把广东地区传统的室外公共活动置入沿街道设置的带型公共开放空间，通过建筑和城市的互动，营造体现市民街道生活的丰富场景，形成各种文化元素互补互动、相辅相成的公共开放空间格局，描绘街道空间+民俗烟火气息的生活长卷。

项目名称：坑梓科技文化中心

项目地点：深圳市坪山区

用地面积（平方米）：21543

建筑面积（平方米）：72436

设计单位：深圳汤桦建筑设计事务所有限公司

主创设计师（人名）：汤桦

项目负责人：王鲲

设计团队（人名）:

朱闯、邓林伟、戴琼、汤孟禅、郑立鹏、闫沛祺、朱火星、刘滢、陈文锋、郑昕、郑晨曦、赵鉴一（实习生）、林郁（实习生）

技术支持：汪田浩

联合体设计单位：

奥意建筑工程设计有限公司

其他参与单位，包括但不限于（若无可空出，若有其他合作方请补充）：

室内设计：深圳市坐标建筑装饰工程股份有限公司

景观设计：岭南设计集团有限公司

泛光设计：深圳普莱斯照明设计顾问有限责任公司

标识设计：深圳市王粤飞企业形象设计有限公司

幕墙顾问：深圳市中筑创智幕墙工程设计有限公司

木结构顾问：苏州昆仑绿建木结构科技股份有限公司

剧场声光电顾问：深圳市中邑装饰设计工程有限公司

设计时间（起迄年月）：2018/11 - 2021/08

建设时间（起迄年月）：2021/05 - 2024/12

业主：深圳市坪山区建筑工务署

摄影师：张超